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電鍍設備廠家淺談電鍍前處理之化學拋光

　　在(zai)電(dian)(dian)鍍生產(chan)線上，工件在(zai)電(dian)(dian)鍍前(qian)(qian)進行的(de)一系(xi)列前(qian)(qian)處理(li)都是為了(le)得到(dao)更好的(de)鍍層，那么化學拋(pao)光在(zai)整個(ge)前(qian)(qian)處理(li)中也是很重要的(de)，下(xia)面我(wo)們就來了(le)解一下(xia)電(dian)(dian)鍍前(qian)(qian)處理(li)的(de)化學拋(pao)光。

　　化(hua)(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)是(shi)指(zhi)在合(he)適的(de)(de)溶液中(zhong)(zhong)，不使用(yong)外(wai)接電(dian)源，依靠化(hua)(hua)學(xue)浸蝕作用(yong)對(dui)工件(jian)進行的(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)。在化(hua)(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)過(guo)(guo)程(cheng)中(zhong)(zhong)，由于(yu)(yu)金屬微觀(guan)表(biao)(biao)面(mian)形成了不均勻(yun)的(de)(de)鈍(dun)化(hua)(hua)膜，或由于(yu)(yu)形成了類似電(dian)解拋(pao)光(guang)(guang)(guang)過(guo)(guo)程(cheng)中(zhong)(zhong)所(suo)形成的(de)(de)稠(chou)質(zhi)黏膜，從而(er)使表(biao)(biao)面(mian)微觀(guan)凸出部(bu)分的(de)(de)溶解速(su)度顯著大于(yu)(yu)微觀(guan)凹入部(bu)分，因(yin)此(ci)降(jiang)低(di)了零件(jian)的(de)(de)表(biao)(biao)面(mian)顯微粗糙(cao)程(cheng)度，使零件(jian)表(biao)(biao)面(mian)比較光(guang)(guang)(guang)亮和(he)平(ping)整。化(hua)(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)廣泛應用(yong)于(yu)(yu)不銹鋼、銅及鋁(lv)合(he)金等的(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)，還用(yong)于(yu)(yu)對(dui)一(yi)些(xie)零件(jian)做裝(zhuang)飾加(jia)工。化(hua)(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)可(ke)作為(wei)電(dian)鍍前的(de)(de)處理工序，也可(ke)在拋(pao)光(guang)(guang)(guang)后輔以必(bi)要(yao)的(de)(de)防護措施而(er)直接使用(yong)。

　　與電(dian)(dian)(dian)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)相(xiang)比(bi)，化(hua)(hua)學拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)不需要電(dian)(dian)(dian)源和(he)導電(dian)(dian)(dian)掛(gua)具，可(ke)對形(xing)狀復雜(za)的(de)各種(zhong)尺寸的(de)零件(jian)進行(xing)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)，生(sheng)(sheng)產(chan)效率高(gao)。其(qi)缺點是(shi)溶(rong)液使用(yong)壽命短，濃度的(de)調整和(he)再(zai)生(sheng)(sheng)比(bi)較困難(nan)，通(tong)常還(huan)會析出一些有害(hai)氣體。化(hua)(hua)學拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)質量(liang)也(ye)比(bi)電(dian)(dian)(dian)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)差，這主要是(shi)因為在(zai)化(hua)(hua)學拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)中(zhong)，由于(yu)材料的(de)質量(liang)不均(jun)勻，會引起局(ju)部(bu)(bu)電(dian)(dian)(dian)勢高(gao)低不一，產(chan)生(sheng)(sheng)局(ju)部(bu)(bu)陰陽極(ji)(ji)區(qu)，形(xing)成局(ju)部(bu)(bu)短路(lu)的(de)微電(dian)(dian)(dian)池，使陽極(ji)(ji)發生(sheng)(sheng)局(ju)部(bu)(bu)溶(rong)解(jie)。而(er)在(zai)電(dian)(dian)(dian)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)中(zhong)，由于(yu)外加電(dian)(dian)(dian)勢的(de)作用(yong)可(ke)以(yi)完全消除這種(zhong)局(ju)部(bu)(bu)的(de)陰極(ji)(ji)區(qu)，從(cong)而(er)進行(xing)全面的(de)電(dian)(dian)(dian)解(jie)，因而(er)效果更(geng)好(hao)。

　　(1)拋光液(ye)的(de)組(zu)成及(ji)其(qi)他影(ying)響因素。

　　①拋(pao)光(guang)(guang)液(ye)組成：為了保證化(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)的效果，必須使(shi)金屬表面溶解，并在表面形成前(qian)述(shu)的液(ye)體膜或固體膜。化(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)液(ye)的基本(ben)組成一般包括腐蝕(shi)(shi)劑、氧化(hua)劑、添(tian)加(jia)劑和水。其中，腐蝕(shi)(shi)劑是主要(yao)成分，主要(yao)使(shi)工件在溶液(ye)中溶解;氧化(hua)劑和添(tian)加(jia)劑可抑制腐蝕(shi)(shi)過程，使(shi)反應朝有利于(yu)拋(pao)光(guang)(guang)的方(fang)向進行;水對溶液(ye)濃度起調節作(zuo)用，便于(yu)反應產物的擴(kuo)散。

　　用作金(jin)屬溶解的(de)成(cheng)(cheng)分一般是(shi)酸(suan)(suan)，其中用得(de)較多的(de)是(shi)H2S04、HN03、HC1、H3PO。、HF等強(qiang)酸(suan)(suan)，而(er)對鋁那樣的(de)兩性金(jin)屬，也可(ke)用NaOH，在(zai)這(zhe)些酸(suan)(suan)中由(you)于高濃度的(de)磷酸(suan)(suan)和硫酸(suan)(suan)都具有(you)較高的(de)黏(nian)度，可(ke)形(xing)成(cheng)(cheng)液(ye)體(ti)膜(mo)(mo)擴散(san)(san)層(ceng)，故這(zhe)種成(cheng)(cheng)分具有(you)兩種功能。這(zhe)也是(shi)在(zai)化學拋光液(ye)的(de)組成(cheng)(cheng)中主要采用磷酸(suan)(suan)和硫酸(suan)(suan)的(de)原因。為(wei)了提高黏(nian)度，使擴散(san)(san)層(ceng)容易形(xing)成(cheng)(cheng)，也可(ke)加(jia)進(jin)明膠或甘油等能提高黏(nian)度的(de)添加(jia)劑。為(wei)了促進(jin)固體(ti)膜(mo)(mo)的(de)形(xing)成(cheng)(cheng)，則(ze)需(xu)加(jia)入以(yi)硝酸(suan)(suan)或鉻酸(suan)(suan)為(wei)主的(de)強(qiang)氧化劑。

　　②電鍍設備拋光時間：化學拋光存在一個最佳拋光時間范圍。若時間過短，只能獲得沒有光澤的梨皮狀表面;若時間過長，不僅溶液損失增大，而且加工表面會出現污點或斑點。而這個時間范圍受材料、拋光液組成及拋光溫度等因素的影響，通常難以預測，只能通過實驗測定。化學拋光中往往同時產生氫氣，這是在拋光具有氫脆敏感性材料時必須注意的問題。另外拋光液溫度高達100~200CC時，還會發生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到最低，就必須在最適溫度范圍內選擇盡可能短的拋光時間。

　　③電鍍設備拋光溫度：化學拋光時，溶解速度隨著拋光液溫度的提高而顯著增加。此外，強氧化性的酸在高溫時的氧化作用會變得很顯著。在化學拋光中，由于這些酸的溶解作用和氧化作用會同時發生，故多數情況下都是把拋光液加熱到較高溫度來進行拋光的。

　　需要提供(gong)溫(wen)度來進行拋光(guang)的(de)金屬有鋼(gang)鐵、鎳、鉛(qian)等(deng)，若溫(wen)度低(di)于(yu)某一(yi)定值，就會失去光(guang)滑的(de)腐蝕表面(mian)，故存在一(yi)個(ge)形(xing)成光(guang)澤面(mian)的(de)臨界點，在臨界點以上的(de)溫(wen)度范(fan)圍內拋光(guang)效果較好(hao)。而(er)這(zhe)個(ge)溫(wen)度范(fan)圍又(you)因液體(ti)的(de)組(zu)成不同而(er)異，如果高于(yu)這(zhe)個(ge)溫(wen)度范(fan)圍，會形(xing)成點蝕、局部(bu)污(wu)點或斑點，使整個(ge)拋光(guang)效果降低(di)。此(ci)外，溫(wen)度越高，材(cai)料的(de)溶解(jie)損失也越大。

　　(2)銅及其合金的化學拋(pao)光。銅和(he)單相銅合金可在(zai)磷酸(suan)(suan)一(yi)硝(xiao)酸(suan)(suan)一(yi)醋酸(suan)(suan)或硫酸(suan)(suan)一(yi)硝(xiao)酸(suan)(suan)一(yi)鉻酸(suan)(suan)型溶液中進(jin)行化學拋(pao)光

　　在(zai)使用過(guo)程(cheng)中(zhong)需經常補充(chong)硝酸，拋光時如果二氧化氮析出較少，零件表面呈(cheng)暗黃色時，可按(an)配置量(liang)的1/3補充(chong)硝酸。為防止過(guo)量(liang)的水(shui)帶入槽內(nei)，零件應(ying)干燥后(hou)再(zai)拋光。

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